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反滲透清洗技術論文

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反滲透清洗技術論文

  反滲透膜法水處理工藝是目前公認為水除鹽最有效的技術之一。學習啦小編整理的反滲透清洗技術論文,希望你能從中得到感悟!

  反滲透清洗技術論文篇一

  反滲透離線清洗技術研究

  摘要 本文分析了電廠反滲透系統(tǒng)運行流程及反滲透膜污染的主要原因與污染物種類,介紹了反滲透離線清洗技術原理及清洗方法。

  關鍵詞 反滲透;離線清洗;技術

  中圖分類號TM62 文獻標識碼A 文章編號 1674-6708(2011)35-0061-02

  0 引言

  反滲透膜法水處理工藝是目前公認為水除鹽最有效的技術之一。但是由于反滲透膜在正常運行過程中不可避免地會被無機鹽垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染。這些物質沉積在膜表面上,將會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽力下降。因此為了恢復良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。通過離線清洗技術,可基本恢復濾元通量,顯著降低過濾器進、出口壓差,延長濾元的使用壽命,對提高反滲透系統(tǒng)的工作效率具有重要現(xiàn)實意義。

  1 反滲透系統(tǒng)流程與運行情況

  根據(jù)電廠鍋爐生產(chǎn)工藝中對進水水質的控制要求,設計反滲透系統(tǒng)運行流程為:機組循環(huán)水排水或水庫水(深井水)→生水池→生水泵→機械攪拌澄清池→無閥濾池→清水箱→清水泵→PCF過濾器→超濾組件→超濾水箱→超濾出水輸送泵→反滲透保安過濾器→高壓泵→反滲透組件→淡水箱→淡水泵→二級除鹽系統(tǒng)。從反滲透系統(tǒng)工藝流程來看,反滲透膜的進水雖然經(jīng)過了復雜的前置系統(tǒng)處理,但是仍有較多的雜質,比如少量的懸浮物、膠體、微生物和各種金屬氧化物等,這些物質如果沉積在膜表面,膜表面流體中溶質(截留物質)濃度不斷增加,逐漸高于主體流體的濃度,產(chǎn)生濃差極化現(xiàn)象,致使?jié)舛冗吔鐚拥倪^濾阻力增加,就會堵塞膜的透水通道,膜通量下降,從而大大降低系統(tǒng)出力。

  2 膜污染的主要原因與污染物種類

  一般認為有3種情況可使膜性能下降:一是膜本身的化學變化,包括膜的水解、游離氯等的氧化以及強酸強堿的作用;二是膜本身的物理變化,包括壓密、反壓力作用使膜被破壞;三是膜受污染,這主要包括結垢物、微生物、膠體、懸浮物、有機物等在膜面及內部污染堵塞。這3種情況都可使膜性能下降,并造成進水壓力升高、產(chǎn)水量下降、脫鹽率下降。

  膜污染常見的污染物種類主要有以下幾種:

  1)膠體污堵

  在地下水和地表水中,總含有鐵鋁膠體、硅膠體、有機質膠體及預處理時加入的混凝劑、助凝劑、阻垢劑等形成的膠體,在膜表面都可能沉積這些物質,從而形成膠體污堵,降低系統(tǒng)產(chǎn)水量,脫鹽率下降。

  2)生物污堵

  由于單一的殺菌劑不能全部殺死水中的各種細菌微生物,系統(tǒng)設在死角區(qū)或停用時間過長造成細菌微生物生長繁殖,粘附在膜表面形成生物粘膜,使系統(tǒng)運行壓差升高,產(chǎn)水量下降,脫鹽率先是略有上升,然后降低。

  3)化學結垢

  化水結垢往往是被濃縮鹽水中過量的溶解鹽沉淀而結垢。表現(xiàn)為原段壓降升高,脫鹽率下降,出力降低。

  4)顆粒堵塞

  由于系統(tǒng)投運時沖洗不徹底,保安過濾器缺陷致使泥、細砂等腐蝕碎片通過,從而導致運行壓差高,使膜邊上的膜片脫落堵在下一個膜的前端,造成壓降升高、出力減小。

  3 反滲透膜的離線清洗技術

  3.1 清洗技術原理

  離線清洗是單獨拆出運行系統(tǒng)中的滲透膜,利用專業(yè)清洗裝置對滲透膜進行清洗。通過物理和化學的共同作用達到清除污垢、恢復膜元件性能的目的。其系統(tǒng)組成包括:清洗配液罐(按清洗藥劑的酸堿性分為堿性液和酸性液,罐內可以安裝加熱盤管)、清洗泵、過濾器、原水泵、RO泵(高壓泵)、RO膜組(壓力容器)、壓力表、溫度計、pH計、流量計、閥門、管道以及控制儀表等。離線清洗可以充分發(fā)揮清洗裝置的優(yōu)勢,先對膜元件性能參數(shù)進行測試,然后針對污垢特點使用不同的清洗藥劑反復、交替進行清洗。化學藥劑的使用針對性強、除垢率高,不會對膜元件造成傷害。因此,一般對于污染較輕或初次清洗的系統(tǒng)適合采用在線清洗方式進行恢復。如果在線清洗很難恢復正常運行狀態(tài),再采用離線方式進行徹底清洗。

  3.2 清洗條件

  為了保證反滲透系統(tǒng)的正常運行,延長反滲透膜元件的壽命,按照反滲透的設計要求,在達到以下條件時應盡早實施清洗:

  1)一運轉(流量)條件下,各段的壓差達到運轉初期壓差的1.5倍;

  2)段的壓差達到各個反滲透元件的規(guī)格表記載的允許值;

  3)準運轉條件(相同壓力、溫度、回收率、濃度)下的產(chǎn)水量減少到初期的90%。

  3.3 清洗藥劑

  膜清洗劑的使用要求不但要將污染物從膜上去除,同時必須在去除污染物的同時要保證膜不受傷害,或最小程度的受傷害。因此,離線清洗藥劑的選擇要充分考慮到系統(tǒng)的預處理工藝、進水水質、系統(tǒng)運行狀況、系統(tǒng)正在使用的化學品以及膜元件的材質特性即耐受酸、堿、氧化劑、溫度、外力沖擊的能力等諸多因素。根據(jù)上述所述,通常污染類型雖然可以簡單地劃分為無機鹽污染、金屬氧化物污染、膠體污染、系統(tǒng)短路引起的顆粒污染,但是實際例子中通常需要相當?shù)默F(xiàn)場經(jīng)驗才可以準確判斷污染的類型。然后,根據(jù)污染類型針對性的選擇清洗劑,如TS-883是種高pH的藥劑,用于去除有機物、污泥、膠體以及其它附著于膜表面的顆粒;TS-882是種低pH藥劑,用于去除金屬氫氧化物、碳酸鈣和其它類的結垢; TS-881是種廣譜的生物抑制劑,在低藥量下可以快速的起到殺菌作用。同時,通常情況下各種污染都是相伴而生的,這些藥劑的協(xié)同使用可以最大程度恢復膜元件性能,同時保證膜元件不受傷害。

  3.4 清洗步驟

  1)用性能優(yōu)良的備用膜元件替換系統(tǒng)上的待清洗膜元件,以保證系統(tǒng)不停止運行;2)測試膜元件性能。每一支膜元件單獨測試其各項性能指標,包括:脫鹽量、產(chǎn)水量、壓差、重量等,并作好測試前紀錄。通過對元件物理檢測和性能分析,判斷元件污染類型,并確定出最有效的清洗方案對單支膜元件進行清洗;3)用反滲透產(chǎn)品水配制清洗液,準確稱量并混合均勻,檢測清洗液的pH值、藥劑含量、溫度等是否符合要求;4)對單支膜元件進行試清洗,然后對超濾裝置的所有超濾膜元件(4組,每組10支)均進行離線單支清洗。所用清洗劑為KY410、KY420、KY430、KY440藥劑及部分鹽酸等輔助藥劑。將加熱的藥液經(jīng)泵注入滲透膜,泵的流量10m3/h~15m3/h,揚程20m~30m,泵揚程的選擇要符合要求,不要超高。剛清洗時一桶藥液不要循環(huán)到藥箱,要求直接排放至廢液回收裝置,里面含有大量的污染物,會直接影響藥液的效果,導致清洗不佳。之后沒有大量污染的時候藥液直接回到原藥液罐,進行循環(huán)清洗。清洗時要全量打開濃水排放閥門盡量降低壓力,關閉產(chǎn)水閥,以免藥液流入純水箱。

  參考文獻

  [1]郝丹宇.反滲透膜的清洗[J].工業(yè)水處理,2002(11).

  反滲透清洗技術論文篇二

  反滲透膜的化學清洗

  摘 要: 通過對反滲透膜不同污垢的分析,提出了針對性的清洗方案,詳細介紹了常規(guī)污染物清洗方法、清洗藥劑配方及特殊污染物的清洗方法。

  關鍵詞: 反滲透膜結垢;化學清洗;

  中圖分類號:F407.7 文獻標識碼:A 文章編號:

  反滲透是采用膜分離的水處理技術。隨著膜科學研究和制造工藝的進步,反滲透水處理技術得到了迅速的發(fā)展。反滲透技術基本上屬于物理方法,它借助物理化學過程,在諸多方面具有傳統(tǒng)的水處理方法所沒有的優(yōu)點,例如:室溫下使用、能耗低、占地少和運行維護工作量極少等。

  反滲透膜表面在運行中由于給水帶入的物質的污染而產(chǎn)生污垢,例如金屬氧化物的水合物、鈣的沉淀物、有機物和微生物。這些物質在適當?shù)牟僮鳁l件下可借助化學藥劑的清洗而有效地去除,稱為膜的化學清洗。

  一、反滲透膜結垢的原因

 ?、?預處理方式不當;

 ?、?預處理運行不當;

 ?、?給水系統(tǒng)(管道、泵、閥門等)材料選擇不當;

 ?、?加藥系統(tǒng)不正常;

 ?、?停機后沖洗不當;

 ?、?操作控制(如回收率、產(chǎn)品水通量、給水流速等)不當;

 ?、?長期運行中積累的鈣、硅等沉淀物;

 ?、?反滲透給水的水源改變;

 ?、?給水水源的生物污染。

  二、反滲透膜需要進行清洗的標志

  膜表面污垢導致產(chǎn)品水流量減少,膜的脫鹽率下降,給水/濃水的壓力差增加。

  經(jīng)過標準化后的運行參數(shù):(產(chǎn)品水流量下降10%,脫鹽率下降5%,給水、濃水壓差增加15%需進行化學清洗)其基準是參比新膜最初始運行24―28h內的運行性能。如預處理合理、運行正常,則一般半年至一年清洗一次,如小于3個月就需要清洗,則應研究改進預處理方式。

  污垢種類的判別

  復合膜的清洗,由于其對PH值和溫度的高度穩(wěn)定性,只要選擇清洗工藝得當,就可以達到較好的清洗效果。如果未及時清洗,拖延太久,就很難清洗干凈。有效的清洗是依據(jù)污垢的性質選擇清洗化學藥品,錯誤選擇藥品將使污垢惡化,因而清洗前可根據(jù)下列幾個方面弄清污垢種類:

 ?、?給水化學分析成分;

 ?、?以前清洗的檢查結果;

  ㈢ SDI測定的過濾膜上的污染物分析;

 ?、?保安過濾器上沉積物分析;

  ㈤ 檢查給水管道內表面,打開壓力容器端蓋,觀察膜元件進水端污垢的外狀(如紅棕色可能是鐵污垢,生物污垢活有機物通常為黏性膠狀物)。

  化學清洗工藝要點

  必須按照選擇的配方和規(guī)定的溫度進行;

  清洗流速:對于8in膜元件,流速最大采用9.1m3/h;4in膜元件,流速采用1.8―2.3m3/h; 2.5in膜元件,流速采用0.7―1.1m3/h。壓力容器的壓力必須是達到上述流量的最小壓力,但通過任何壓力容器的壓降不得超過60psi。

  膜元件的清洗可以用陰離子表面活性劑,避免使用陽離子表面活性劑,因其可能產(chǎn)生不可逆轉的污堵。

  可以并聯(lián)清洗,也可以分段清洗,分段清洗的目的是:

 ?、?不致使第一段流速過低,不致使最后一段流速太高。

  ㈡ 不致使第一段沉積物帶至下一段。

  配置溶液使用的水源必須為反滲透產(chǎn)品水。

  清洗設備及系統(tǒng)

 ?、?清洗溶液可能為酸性或堿性,即PH=1―12,因此清洗系統(tǒng)必須是防腐材料,溶液箱設有加溫,故應考慮耐溫(45℃),不應低于15℃,以防止化學藥劑在低溫下沉淀,一般可用碳鋼襯膠、環(huán)氧玻璃鋼或聚丙烯材料。清洗箱應設有蓋子,蓋上有人孔以便加藥。

  ㈡ 清洗溶液箱體積大致為每次清洗時第一段壓力容器的容積加上清洗(進出溶液)循環(huán)管路的容積。

  清洗流量:對于8in膜元件,流速最大采用9.1m3/h,流量乘以第一段最高的壓力容器排列個數(shù),考慮到污垢嚴重的可能性,應乘以1.5倍的系數(shù)。

  清洗過程及步驟

 ?、?清洗系統(tǒng)的準備

  停下待清洗的反滲透系統(tǒng),關閉高壓泵出口截止閥和電動閥,開濃水排放閥和調節(jié)閥,關閉產(chǎn)品水手動閥。打開產(chǎn)水清洗回流閥。上述閥門不能有內漏現(xiàn)象。

  將除鹽水注至清洗水箱1/2液位,打開清洗泵進口閥,啟動清洗水泵,開啟清洗水泵出口回流閥門,打開清洗保安過濾器進口閥和出口閥,此時可打開保安過濾器上的空氣閥排放系統(tǒng)中的空氣,直至水流出為止,即可準備清洗。

 ?、?配置清洗液

 ?、?將藥品加入清洗水箱,加除鹽水至2/3液位,用清洗水泵混合一遍清洗液,預熱清洗液時應用低流量(理論清洗水量的一半)。

 ?、?盡可能低的清洗液壓力置換元件內的原水,其壓力僅需達到足以補充進水至濃水的壓力損失即可,即壓力必須低到不會產(chǎn)生明顯的滲透產(chǎn)水。低壓置換操作能夠最大限度的減低污垢再次沉淀到膜表面,視情況而定,排放部分濃水以防止清洗液的稀釋。

 ?、?濃水管路中就應該出現(xiàn)清洗液,讓清洗液循環(huán)回清洗水箱并保證清洗液溫度恒定。

  停止清洗泵的運行,讓膜元件完全浸泡在清洗液中。一般元件浸泡1小時足夠了,但對于頑固的污染物,需要延長浸泡時間,如浸泡10―15小時或過夜。為了維持浸泡過程的溫度,可采用很低的循環(huán)流量(理論清洗流量的10%)。

 ?、?進行大流量循環(huán),循環(huán)時間為30―60分鐘。大流量能沖掉被清洗液清洗下來的污染物。大流量的條件下,將出現(xiàn)過高壓降的問題,單元件最大允許的壓降為1bar(15psi),對多元件壓力容器最大允許壓降為3.5bar(50psi),以先超出為限。

 ?、?預處理的合格產(chǎn)水可以用于沖洗系統(tǒng)內的清洗液,除非存在腐蝕問題(例如,靜止的海水將腐蝕不銹鋼管道)。為了防止沉淀,最低沖洗溫度為20℃。

  注:在酸洗過程中,應隨時檢查清洗液 pH值變化,當在溶解無機鹽類沉淀消耗掉酸時,如果 pH的增加超過 0.5 個 pH值單位,就應該向清洗箱內補充酸,酸性清洗液的總循環(huán)時間不應超過 20 分鐘,超過這一時間后,清洗液可能會被清洗下來的無機鹽所飽和,而污染物就會再次沉積在膜表面,此時應用合格預處理產(chǎn)水將膜系統(tǒng)及清洗系統(tǒng)內的第一遍清洗液排放掉,重新配置清洗液進行第二遍酸性清洗操作。

  清洗藥劑配方

  八、清洗藥劑的性能和作用

  反滲透膜上的污染物主要有:懸浮顆粒、膠體顆粒(包括有機物和無機物)、難容鹽垢(有碳酸鈣,鈣、鍶、鋇的硫酸鹽)、金屬氧化物、二氧化硅、有機物、微生物等。所采用的化學清洗藥劑有酸、堿、有機絡合劑以及表面分散劑等?;瘜W藥品在清洗中的作用如下:

 ?、?鹽酸

  鹽酸是一種價格便宜,易于去的的無機強酸,鹽酸能溶解碳酸鹽水垢、多數(shù)金屬氧化物。

 ?、?磷酸

  磷酸是中等酸性的無機酸,由于分級電離,故酸性較鹽酸弱,常用濃度0.5%。對碳酸鈣和金屬氧化物都有容積作用。

 ?、?氨基磺酸

  氨基磺酸也是次于鹽酸、磷酸的有機強酸,其1%水溶液的PH值為1.18。不揮發(fā)、不吸濕、無味無毒、不燃的白色晶體。

 ?、?檸檬酸

  檸檬酸為無色透明晶體,1%水溶液的PH值為2.3。檸檬酸可溶解金屬氧化物,其原理不是依靠氫離子去溶解,而是檸檬酸能夠絡合金屬離子,把氧化物去除。

  ㈤ 堿液

  堿液清洗主要是為了去除微生物、有機物和硅垢對膜的污染。堿液主要采用氫氧化鈉(0.1%)的水溶液,其PH值約為12。

  ㈥ 硫代硫酸鈉

  硫代硫酸鈉用于清洗金屬氧化物,屬于還原性溶解,采用濃度1%。

 ?、?表面活性劑

  表面活性劑是能分散在溶液中的有機化合物,可使溶液的表面張力降低,引起正吸附,這樣可使溶液表面容質大于溶液內部容質分子的濃度。十二烷硫酸鈉是膜清洗中最主要的表面活性劑,加入量為0.1%。

  九、特殊污染物的清洗

 ?、?硫酸垢的清洗

  硫酸鹽垢的污染是非常難以清洗的一類膜污染物,如果硫酸鹽類垢不能在早期發(fā)現(xiàn),膜系統(tǒng)性能能夠清洗恢復的可能性極低,最有可能是將出現(xiàn)產(chǎn)水量的下降并難以恢復。其清洗系統(tǒng)配置、pH和溫度范圍及建議清洗流量值完全相同。

  清洗藥品:0.1%NaOH;1.0% Na4-EDTA(pH12,溫度 30ºC)

 ?、?有機物的清洗

  針對存在有機物如腐植酸和富里酸、阻垢劑或油等污染膜系統(tǒng)的清洗,清洗過程,系統(tǒng)配置、pH和溫度范圍及建議清洗流量值完全相同。

  清洗藥品:

  先用 0.1% NaOH,pH12,最高溫度 30oC進行清洗,

  再用 0.2% HCl,pH2,最高溫度 45oC進行清洗。

  參考文獻

  [1]張葆宗,李明,張松建等.反滲透水處理應用技術 [M].中國電力出版社,2004.

  [2]DOW反滲透和納濾膜元件產(chǎn)品與技術手冊[C],2011.

  [3]卞衛(wèi)華.膜技術在電廠水處理中的應用[J].能源工程,2005.

  
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